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Resolution Test Targets

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High Resolution Microscopy Slide Targets High Resolution Microscopy Slide Targets 신제품
  • 소형 패턴 사이즈 - 100nm 및 3300 lp/mm
  • 고정밀 E-Beam Lithography를 이용해 제작됨
  • Negative Pattern 디자인
USAF 1951 Contrast Resolution Target USAF 1951 Contrast Resolution Target
  • 15 개의 농도 변화하는 USAF 타깃
  • 다른 Contrast 레벨에서 해상도 측정 가능
USAF 1951 Glass Slide Resolution Targets USAF 1951 Glass Slide Resolution Targets
Top Seller
  • 유리 위에 Positive와 Negative 패턴
  • 두 가지 사이즈 가능
  • 각각 박스로 구성, Resolution Value 차트 포함
  • 고해상도 타겟 가능 (645 lp/mm까지)
USAF 1951 Photographic Paper Resolution Targets USAF 1951 Photographic Paper Resolution Targets
  • 4:3 Aspect Ratio로 정리되어 필드로 해상도를 측정
  • 각 부분마다 다른 농도 레벨의 4 개의 USAF 타깃
Clear Optical Path USAF Target Clear Optical Path USAF Target
  • X-Ray, UV, Thermal, Far-IR 이미징 시스템의 해상도 측정
  • 간편한 장착
  • 투과 용도에 적합
High Precision Ronchi Rulings High Precision Ronchi Rulings
  • 유리에 크롬 코팅
  • 높은 공차
  • 훌륭하게 etch되고 채워진 Rulings
  • Edge에 라인 평행
  • English와 Metric 버전
I3A/ISO 12233 Resolution Test Chart I3A/ISO 12233 Resolution Test Chart
  • ISO 12233 표준에 따름
  • 전체 필드 해상도 교정 제공
  • 디지털이나 아날로그 비디오 시그널을 전달하는 단색과 컬러 카메라에 사용 가능
  • 3가지 크기
IEEE Target IEEE Target
  • 전체 필드 해상도 교정
  • 아날로그 이미지 시스템의 테스트용으로 디자인
NBS 1963A Resolution Target NBS 1963A Resolution Target
  • Negative와 Positive 패턴
  • NBS 표준 1010A를 따름
  • 주파수 범위는 1-512 Cycle/mm
Opal Glass Ronchi Ruling Slides Opal Glass Ronchi Ruling Slides
  • 오팔 위에 크롬 코팅
  • 반사형 시스템의 해상도 테스트
  • 높은 허용오차
Precision Ronchi Ruling Glass Slides Precision Ronchi Ruling Glass Slides
  • Resolution, Field 왜곡과 Parfocal Stability 평가를 위해 사용
  • Reticle과 Field 교정 요구에 적합
  • Opal 기반 위 혹은 형광 막이 있는 Float Glass, Fused Silica, Fused Silica 기반 위에 이용 가능
Precision Ronchi Rulings on Opal Glass Precision Ronchi Rulings on Opal Glass
  • Opal 위에 Chrome 코팅
  • High Tolerance
  • 인치와 Metric 버전
Resolving Power Chart Resolving Power Chart
  • Test for Astigmatism
  • USAF Test Pattern in Black, Red, Yellow, and Blue
  • 6 Elements in 6 Groups
Sinusoidal Targets Sinusoidal Targets
  • MTF 테스트를 위해 디자인
  • 이미지 부품의 이미지 품질을 결정
Star Target Star Target
  • 초점 에러와 Astigmatism 검사로 적합
  • 0.6-14 lp/mm Wedge Spacing
  • 화이트 포토 종이로 가능 또는 유리에 크롬 코팅
Star Target Arrays Star Target Arrays
  • 다양한 Field Point에서 수차를 감지
USAF 1951 and Dot Grid Target USAF 1951 and Dot Grid Target
  • USAF 1951 Elements 0 to 3 (14 lp/mm)
  • Fixed Frequency Grid on 2mm Centers
  • 2” x 2.75”
USAF Pattern Wheel Target USAF Pattern Wheel Target
  • 4-228 lp/mm resolution 테스트
  • 테스트 시간을 줄일 수 있음
  • Multiple Field Points 테스트
UV Fused Silica and Fluorescent USAF 1951 Resolution Targets UV Fused Silica and Fluorescent USAF 1951 Resolution Targets
  • UV 또는 형광 현미경 교정용으로 설계
  • Fluorescent 타겟은 365nm 여기 파장과 550nm 방출 파장 보유
  • Negative와 Positive 타겟으로 제공
Variable Frequency Targets Variable Frequency Targets
  • 5 lp/mm에서 120 lp/mm나 5 lp/mm에서 200 lp/mm
  • 1mm 넓이의 Step 크기
  • 5 lp/mm Step 증가
  • 비디오 시스템 교정 용도로 사용
  • 모르는 해상도 측정
Pocket USAF Optical Test Pattern Pocket USAF Optical Test Pattern
Top Seller
  • Pocket Sized USAF Test Pattern

Resolution Test Target은 microscopy나 이미징 같은 이미징 시스템 용도에서 정확도 또는 성능을 측정하는 데 사용됩니다. Resolution Test Target은 이미징 시스템 내부에 삽입되어 측정 능력을 제공합니다. Resolution Test Target은 Ronchi나 star를 포함한 다양한 패턴을 사용하여 시스템의 해상도를 측정합니다. 또한 측정하기 힘들거나 정밀한 측정이 요구되는 경우 고정밀도의 제품을 사용하실 수 있습니다.

Edmund Optics에서는 다양한 이미징 측정 분야에 맞게 넓은 범위의 Resolution Test Target을 제공합니다. Resolution Test Target은 사용자가 쉽게 이미징 시스템의 정확도를 측정할 수 있도록 해주며, 지속된 사용이나 시간이 경과한 후에도 효율성을 유지해줌으로써 시스템의 수명을 늘려줍니다. Star target은 원형으로 모이는 선들로 구성되어있으며, 이미징 시스템이 얼마나 먼 곳에서 각각의 선을 구별해낼 수 있는지를 측정함으로써 해상도를 측정합니다. Ronchi target도 미세한 선들이 나열되어있어 비슷하게 이미징 시스템의 성능을 측정하는 데 사용됩니다. 다수의 Resolution Test Target은 인화지 버전뿐만 아니라 양쪽이 유리 슬라이드로 된 제품으로도 이용이 가능합니다.

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