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원하는 어플리케이션에 적합한 레이저 광학 부품을 제작 및 측정할 수 있는 전문 지식과 최첨단 장비를 갖추고 있어 레이저 손상 임계값(LDT)이 높은 코팅, 공차가 작은 레이저 광학 기판, 기타 광학 부품, 레이저 어셈블리가 필요하거나 문의 사항이 있는 경우 신속한 응대가 가능합니다. 아래 표에 나와 있는 사양보다 더 까다로운 사양이 필요한 경우에는 에드몬드옵틱스(EO)의 레이저 광학 전문 엔지니어에게 문의해 주세요.
고객 설계 기반 맞춤형 제작 가능
프로토타입 제작부터 대량 생산까지 전 과정 지원
복합 코팅 옵션: 레이저 손상 임계값이 높은 코팅, 다중대역 무반사(AR) 코팅, 고반사 코팅, 부분반사 코팅
248nm - 12µm의 파장 대역과 248nm - 40µm의 고반사 파장 대역에 무반사(AR) 코팅 처리 가능
최첨단 계측 기술로 필요한 사양을 일관성 있게 충족
EO의 엔지니어는 고객이 원하는 어플리케이션에 가장 적합한 코팅 기술을 선택하도록 안내받을 수 있는 전문 지식을 갖추고 있습니다. 표준 코팅의 경우 납기까지 빠르면 2주 정도 소요됩니다.
코팅 곡선 샘플
아래에 나타나는 코팅 곡선에는 EO에서 설계한 코팅이 포함되어 있으며 기술 역량을 어느 정도 보여줍니다.
E-빔 코팅
응력이 낮고 가격도 합리적인 코팅으로 다양한 레이저 광학 부품에 적합합니다.
이온 보조 증착(IAD) E-빔 코팅
밀도가 더 높고 환경적으로도 훨씬 안정적인 코팅을 구현하는 데 적합한 다목적 코팅 기술입니다.
이온 빔 스퍼터링(IBS) 코팅
반복도와 안정성이 높은 기술로 반사율이 높은 제품, 극초단 광학 부품, transition(전환)이 뚜렷한 필터에 적합합니다.
마그네트론 스퍼터링
압력 챔버의 설정 압력이 낮아 셋업 시간이 단축되고 대량 생산에 들어가는 광학 부품을 더 저렴한 비용으로 코팅할 수 있습니다.
광학 코팅 기술 역량 | |
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Specification | Value |
Dimensions | 2 – 457.2mm |
Clear Aperture | Up to 100% (Dependent on Substrate Dimensions / Geometry / Tolerances) |
Reflectivity | 0.05 – 99.99% (ppm-level losses on request) |
Anti-Reflective Wavelength Range | 248nm – 12µm |
Highly-Reflective Wavelength Range | 248nm – 40µm |
Laser Damage Threshold (LDT) for ns pulses | >40J/cm2 @ 1064nm, 20ns, 20Hz Pulses, Guaranteed |
Laser Damage Threshold (LDT) for ultrafast fs pulses | >0.3J/cm2 @ 800nm, 48fs, 100Hz Pulses, Guaranteed >0.7J/cm2 @ 800nm, 200fs, 100Hz >0.4J/cm2 @ 1030nm, 200fs, 100Hz >0.9J/cm2 @ 1030nm, 500fs, 100Hz |
Group Delay Dispersion (GDD) Range | -4000 – 5000fs2 |
Durability | MIL-PRF-13830B APP C, PARA C.3.8.4, PARA C.3.8.5, MIL-C-48497A |
Coating Technology | Electron beam coatings with or without ion assisted deposition (IAD), ion beam sputtering (IBS) |
Shortpass Filter Cut-Off Wavelength | 400 - 1600nm |
Longpass Filter Cut-On Wavelength | 240 - 7300nm |
Bandpass Filter CWL, OD, and Bandwidth | 193 – 10,600nm, >OD 7, 1nm - Broadband |
Notch Filter CWL | 355 - 1064nm |
Reflective ND Filter OD | OD 0.1 – OD 3 |
Filter Center Wavelength (CWL) Tolerance | ±1nm |
Filter Edge Tolerance | <1% Deviation, <0.2% Special Cases |
Beamsplitter (BS) Wavelength Range | 240 – 20,000nm |
BS Polarization Extinction Ratio (S:P) | 10,000:1 |
다양한 기판 소재의 미러, 윈도우, 필터, 폴라라이저가 해당됩니다.
플랫 옵틱 기술 역량 | |
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Diameter | 5 - 200mm |
Dimensional Tolerance | +0/-0.010mm |
Thickness | ±0.010mm |
Clear Aperture | >90% |
Surface Flatness (P - V) | λ/10 to λ/20 |
Bevel (face width @ 45 degrees) | <0.25mm |
Surface Quality | 10-5 |
Parallelism | <10arcsec |
Materials | UV Grade Fused Silica (Corning HPFS® 7980), KrF Grade Fused Silica (Corning HPFS® 7980), IR Grade Fused Silica (Corning HPFS® 7979), Sapphire, N-BK7, N-SF5, N-SF11, CaF2, and More |
Surface Roughness | 10 - 15Å typical, <1Å for superpolished surfaces |
특정 레이저 파장 대역에 맞게 설계된 비구면, 구면 singlet 및 achromatic 렌즈가 해당됩니다.
렌즈 기술 역량 | |
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Diameter | 5 - 200mm |
Diameter Tolerance | +0/-0.010mm - +0/-0.025mm |
Asphere Figure Error (P - V) @ 633nm | 1λ |
Vertex Radius (Asphere) | ±0.1% |
Peak Slope Error | 0.35μm/mm per 1mm window |
Centering (Beam Deviation) | 1arcmin |
Center Thickness Tolerance | ±0.050mm |
Surface Quality (Scratch Dig) | 10-5 |
Aspheric Surface Metrology | Profilometry (3D) |
Surface Roughness (RMS) | 2nm |
Thickness | ±0.010mm |
Power (P - V) | λ/2 |
Irregularity (P - V): | λ/40 |
크리스털 커팅, 연삭, 연마, 레이저 손상 임계값(LDT) 및 처리량이 높은 코팅, 리퍼비싱(refurbishing)이 가능합니다.
레이저 크리스털 기술 역량 | |
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Dimensional Tolerance | ±0.1mm |
Form Factors | Rod, rectangular, and zigzag |
Clear Aperture | 90% of Diameter |
Surface Quality | 10-5 |
Parallelism of Polished Surfaces | <10arcsec |
Parallelism of Tilted Ends | <3arcmin |
Perpendicularity | <5arcmin |
Surface Figure | λ/10 at 632.8nm Over the Clear Aperture |
Protective Chamfer | Not to Encroach on the Clear Aperture |
Materials | YAG, YLF, YALO, KTP, LBO, BBO, YVO4, PPSLT, PPLN, and Phosphate-Doped Glasses |
고출력 빔 조향 어플리케이션에 사용할 수 있고 광학 접촉(Optical Contact)이 적용된 프리즘 형상과 기판을 제공합니다.
프리즘 기술 역량 | |
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Dimensions | 2 – 75mm |
Dimensional Tolerance | +0/-0.01mm |
V-Height | >±0.03mm |
불균일도 | λ/20 |
Prism Physical Angle Tolerance | ±0.5arcsec |
Max Bevel (Face Width @ 45°) | ±0.05mm |
Surface Quality (Scratch Dig) | 10-5 |
Bonded Prism Assembly Beam Deviation | 0.5arcmin |
기성품을 최다 보유 중인 EO의 광학마켓에서 신속 배송이 가능한 광학 부품을 주문하세요.
표준형 빔 익스팬더의 파장 대역 및 스레드 개조 후 납기는 4주 이상 소요
맞춤형 빔 익스팬더, 초점 대물렌즈, 기타 레이저 광학 하위 어셈블리에 필요한 설계 및 제조 역량 보유
고급 어셈블리에 정렬 및 centering 적용 가능
내부 초점에 의한 고스트 이미지가 발생하지 않도록 설계된 고출력 어셈블리 제공
전체 어셈블리 개발 시 물리적 광학 전파 모델링은 물론 렌즈 요소 설계, 코팅, 조립, 테스트까지 진행
빔 익스팬더 기술 역량 | |
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Expansion Power | >1X - 20X |
Design Wavelengths | Common Laser Lines Including Nd:YAG, Yb:YAG, Ti:sapphire, and Tm/Ho-Doped Fiber Lasers, Broadband |
Mounts | C-Mount, M22, M30, Custom |
Focusing Mechanisms Available | Sliding Optics, Rotating Optics, Fixed |
Testing/Design Specifications | Transmitted Wavefront Error, Power in the Bucket / Energy on Target, Focused Spot Size |
Assembly Size | >20mm - 1m |
Ruggedization Available | Athermalization, Shock and Vibration, Sealing from Contaminants |
개념과 스펙을 대량 생산으로 전환
프로토타입 신속 제작
클린룸 조립
정렬 및 centering
테스트 및 인증 진행
자체 테스트로 어셈블리 성능 측정
투과 파면 오차, 레이저 빔 프로파일링, 빔 코스틱(caustic) 측정 가능
각 어플리케이션에 적합한 테스트 개발
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EO는 Ultrafast-Enhanced Silver(극초단 강화 실버) 코팅뿐만 아니라 극초단 레이저에 적합한 고반사/무반사(AR) 코팅을 설계 및 증착합니다.
반사율 >99.99%(요청 시 백반분율(PPM) 단위로 손실 최소화)
온도나 습도와 같은 환경 변화의 영향이 적은 코팅
355 - 1600nm 파장 대역을 커버
극초단 코팅의 GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산) 제어
초저 표면 거칠기로 산란에 의한 손실 최소화
RMS 표면 거칠기 <1Å
표준 크기 및 형태: 12.7 - 50.8mm
요청 시 맞춤형 크기 및 형태로 제작 가능
자체 계측 기술 지원
백만분율(PPM) 수준으로 산란
자체 레이저 실험실에서 장시간 UV 레이저에 노출되는 경우에 대한 실험 수행
레이저로 인한 오염 가능성을 고려한 UV 레이저 시스템
환경이나 가스 배출로 인한 오염이 성능 저하나 시스템 고장으로 이어질 수 있는 가능성 존재
세척 및 조립 기술에 대한 전문성 축적으로 노출 및 오염으로 인한 영향을 완화
투과 파면 오차, PIB(Power-in-Bucket), 대상 에너지, 초점이 맺히는 스폿 크기에 대한 자체 테스트 지원
조립 중 광학 부품의 디센터 및 틸트 보정
정밀 대물렌즈, 빔 익스팬더, 기타 어셈블리의 경우 필수
조립용 ISO 6 클린룸 4개, 입고 검수용 ISO 7 클린룸 1개 보유
Thank you for inquiring about our manufacturing capabilities. We will be in touch shortly.
* The term dual use is often used to describe the types of items subject to the EAR (Export Administration Regulations). A dual use item is one that has civil applications as well as military or weapons of mass destruction (WMD)-related applications.