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1030nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors

UltraFast Innovations (UFI) 상세 정보 보기
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  • 7° AOI에서 최대 -1000 fs2의 Highly Negative GDD
  • 60nm 밴드폭에 걸쳐 99.8%가 넘는 최소 반사율(p-편광)
  • Yb:doped Fiber Laser의 분산 보정에 적합
  • 초고속 처프(Chirped) 코팅

1030nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors는 최적화된 멀티레이어 코팅 구조로 인해 매우 낮은 GDD를 제공하고 60nm 밴드폭에서 높은 반사율을 특징으로 합니다. 이 미러는 분산형 광학적 간섭 기반의 코팅 처리가 되어 5° 또는 7°의 설계 입사각에서 매우 높은 음수 값인 -500fs2 또는 -1000fs2의 GDD를 제공합니다. 일반적으로 설계 파장에서 반사율이 99.9%를 초과하며 밴드폭에서는 최소 반사율이 99.8%에 달합니다. 1030nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors는 NIR 스펙트럼의 기타 초고속 레이저 뿐만 아니라 Yb:doped fiber laser의 펄스 압축과 분산 보정용으로 사용하기 적합합니다. 영국식 표준 규격인 ½” 또는 1” (12.7mm 또는 25.4mm)로 제공됩니다. 고객의 레이저 시스템에 적합한 기타 맞춤형 크기나 파장, 초단 펄스(ultrashort pulse)를 원할 경우 당사로 문의 주시면 고객의 어플리케이션에 가장 적합한 솔루션을 함께 모색해 드립니다.

공통 스펙

Typical Applications:
Yb:doped 1st Harmonic
Thickness (mm):
6.35 ±0.2
Back Surface:
Commercial Polish
Clear Aperture (%):
80
Wedge (arcmin):
10 ±5
Design Wavelength DWL (nm):
1030
Substrate:
Fused Silica (Corning 7980)
Coating Type:
Dielectric
Irregularity (P-V) @ 632.8nm:
λ/10
Damage Threshold, By Design:
0.3 J/cm2 @ 1030nm, 50fs, 1kHz, 100μm Beam Diameter

제품정보

DWL (nm)  Wavelength Range (nm)  Dia. (mm) AOI (°)  Reflection at DWL (%)   Thickness (mm)   제품 비교하기   재고 번호   가격(부가세 별도)  구입하기
1030 1000 - 1060 12.70 5 99.9 6.35
1030 1000 - 1060 25.40 5 99.9 6.35
1030 1010 - 1070 12.70 7 99.9 6.35
1030 1010 - 1070 25.40 7 99.9 6.35

제품자료

 
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