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Extreme Ultraviolet (EUV) Flat Mirrors

Extreme Ultraviolet (EUV) Flat Mirrors

Extreme Ultraviolet (EUV) Flat Mirrors

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  • 13.5nm에서 최대 반사율 달성
  • EUV 빔 조정 및 고조파 분리용으로 설계
  • 5° 및 45° AOI 버전으로 제공

Extreme Ultraviolet (EUV) Flat Mirrors는 설계 파장과 입사각에서 반사율이 최대치에 이르도록 설계된 다층 구조의 미러입니다. 이 미러는 초미세연마 가공된 단일 크리스털 실리콘 기판에 코팅 처리가 되어 3Å RMS 미만의 표면 거칠기를 제공합니다. 45° AOI mirror는 s-편광 빔 조정 용도에 유용한 반면, 5° AOI mirror는 비편광 빔과 함께 사용할 수 있습니다. EUV mirror의 용도로는 Coherent Diffractive Imaging (CDI) 및 소재 과학 연구가 있습니다. 이 밖에도 Extreme Ultraviolet (EUV) Flat Mirrors는 High Harmonic Generation (HHG) 빔을 위한 harmonic selector처럼 사용할 수 있습니다.

참고: 각 미러의 생산 시행 견본에 대한 테스트 데이터는 본품에 함께 포함됩니다.

공통 스펙

Diameter (mm):
25.40 ±0.25
Back Surface:
Commercial Polish
Clear Aperture (%):
90
Edges:
Fine Ground
Parallelism (arcmin):
3
Surface Roughness (Å):
<5 RMS
Thickness (mm):
6.35 ±0.508
Thickness Tolerance (mm):
0.508
Surface Flatness (P-V):
λ/10 @ 632.8nm
Substrate:
Single Crystal Silicon
Surface Quality:
10 - 5
Coating:
Mo/Si Multilayer
Top Layer: Silicon
Coating Type:
Metal/Semiconductor
Design Wavelength DWL (nm):
13.5
Center Energy (eV):
92

제품정보

Dia. (mm)  Coating Specification   Coating  AOI (°)  Thickness (mm)   제품 비교하기   재고 번호   가격(부가세 별도)  구입하기
25.40 Rabs >60% @ 13.5nm, 5° (s-pol) Mo/Si Multilayer
Top Layer: Silicon
5 6.35
25.40 Rabs >65% @ 13.5nm, 45° (s-pol) Mo/Si Multilayer
Top Layer: Silicon
45 6.35

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