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Low GDD Dielectric Ultrafast Laser Mirrors

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  • 설계 파장 대역에서 GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)가 ±20fs2로 낮음
  • 반사율이 99.9% 이상
  • Ti:Sapphire 및 Yb:doped 극초단 레이저에 적합

해당 제품은 용융 실리카 기판에 다층 유전체 코팅을 입혀 반사율이 99.9% 이상으로 우수하고 열팽창 계수가 낮아 극초단 빔 전송 어플리케이션에 적합합니다. 또한, 설계 파장 대역에서 GDD(Group Delay Dispersion, 군지연분산)가 0에 근접하여 반사된 빔의 분산을 최소화합니다. 해당 제품은 Ti:Sapphire 및 Yb:doped 레이저의 1차 고조파, 2차 고조파와 사용하여 레이저 가공 및 용접 어플리케이션에 활용합니다.

공통 스펙

Back Surface:
Commercial Polish
Clear Aperture (%):
90
Angle of Incidence (°):
45
Coating Type:
Dielectric
Surface Quality:
10-5
Durability:
MIL-PRF-13830B

제품정보

DWL (nm)  Wavelength Range (nm)  Dia. (mm)  Thickness (mm)  AOI (°)  제품 비교하기   재고 번호   가격(부가세 별도)  구입하기
400 380 - 420 12.70 6.35 45
400 380 - 420 25.40 6.35 45
400 380 - 420 50.80 9.53 45
460 440 - 480 12.70 6.35 45
460 440 - 480 25.40 6.35 45
460 440 - 480 50.80 9.53 45
515 480 - 530 12.70 6.35 45
515 480 - 530 25.40 6.35 45
515 480 - 530 50.80 9.53 45
800 750 - 850 12.70 6.35 45
800 750 - 850 25.40 6.35 45
800 750 - 850 50.80 9.53 45
920 870 - 970 12.70 6.35 45
920 870 - 970 25.40 6.35 45
920 870 - 970 50.80 9.53 45
1030 990 - 1070 12.70 6.35 45
1030 990 - 1070 25.40 6.35 45
1030 990 - 1070 50.80 9.53 45
1060 1010 - 1110 12.70 6.35 45
1060 1010 - 1110 25.40 6.35 45
1060 1010 - 1110 50.80 9.53 45
1310 1260 - 1360 12.70 6.35 45
1310 1260 - 1360 25.40 6.35 45
1310 1260 - 1360 50.80 9.53 45
1550 1510 - 1590 12.70 6.35 45
1550 1510 - 1590 25.40 6.35 45
1550 1510 - 1590 50.80 9.53 45
2000 1900 - 2100 12.70 6.35 45
2000 1900 - 2100 25.40 6.35 45
2000 1900 - 2100 50.80 9.53 45

제품설명

참고: 원하는 파장 대역, 각도, 크기에 맞게 설계된 제품이 필요한 경우 당사로 문의 바랍니다.

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