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Ti:Sapphire Laser Line Mirrors

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  • Ti:Sapphire 레이저 기본 및 고조파 주파수에서 반사율 >99.8%
  • 표면 품질: 10-5, 레이저 어플리케이션에 사용할 경우 산란 감소
  • 레이저 손상 임계값(LDT)이 높음

공통 스펙

Parallelism (arcmin):
<3
Edges:
Fine Ground
Substrate:
Fused Silica (Corning 7980)
Surface Flatness (P-V):
λ/10
Surface Quality:
10-5

제품정보

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개요

해당 제품은 0 - 45° 및 45° 입사각에서 Ti:Sapphire 레이저 기본 및 고조파 주파수에서 99.8%가 넘는 반사율을 제공합니다. 우수한 열 안정성을 고려하여 용융 실리카 기판으로 제조되었으며 각각 기본/2차/3차 고조파에 상응하는 800nm, 400nm, 266nm 파장으로 코팅 처리가 되어 있습니다. 또한, 산란으로 인한 영향을 최소화하도록 λ/10의 표면 평탄도와 10-5의 표면 품질을 갖습니다. 해당 제품은 다광자 이미징, 극초단 분광법, 콜드 마이크로머시닝 등 다양한 Ti:Sapphire 레이저 어플리케이션에 적합합니다.

 
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