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UltraFast Innovations (UFI) EUV/XUV Attosecond Multilayer Mirrors

UltraFast Innovations (UFI) 상세 정보 보기
UltraFast Innovations (UFI) EUV/XUV Attosecond Multilayer Mirrors

UltraFast Innovations (UFI) EUV/XUV Attosecond Multilayer Mirrors

UltraFast Innovations (UFI) EUV/XUV Attosecond Multilayer Mirrors
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해당 제품은 아토초 펄스를 조향, 포커싱, 쉐이핑하는 용도로 설계되었습니다. 다층 코팅은 65eV(19nm)를 중심으로 대역폭이 6eV(1.8nm)이며, S-편광의 경우 38%의 피크 반사율을 제공합니다. 해당 제품은 330 아토초의 지속 시간을 가진 EUV 펄스를 지원합니다. 또한, 고조파 생성, 자유 전자 레이저, 기타 양자 광학 어플리케이션을 기반으로 아토초 펄스를 생성하고 쉐이핑하는 것에 적합합니다.

공통 스펙

Supported Pulse Duration:
330 attoseconds
Diameter (mm):
25.40 ±0.13
Back Surface:
Commercial Polish
Clear Aperture (%):
80
Edges:
Fine Ground
Surface Roughness (Å):
<1
Edge Thickness ET (mm):
6.35 ±0.20
Substrate:
Fused Silica (Corning 7980)
Coating Specification:
Rs > 38% @ 65eV/19nm
Coating:
EUV Multilayer (19nm)
Angle of Incidence (°):
5
Design Wavelength DWL (nm):
19
Reflection at DWL (%):
>38
Center Energy (eV):
65 ±2
Bandwidth (eV):
6

제품정보

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25.4mm Dia., 19nm (65eV), 5° EUV/XUV Attosecond Multilayer Flat Mirror
25.4mm Dia. x 250mm EFL, 19nm (65eV), 5° EUV/XUV Attosecond Multilayer Concave Mirror
25.4mm Dia. x 500mm EFL, 19nm (65eV), 5° EUV/XUV Attosecond Multilayer Concave Mirror

제품설명

원자 정밀 이온 빔을 증착하면 원자적으로 매끄러운 코팅 층이 형성됩니다. 해당 제품은 더 많은 어플리케이션에서 높은 효율로 파장과 스펙트럼 위상을 정밀하게 제어할 수 있습니다. 아토초 과학은 극초단 레이저의 한계를 뛰어넘고, 전자의 운동과 같은 가장 근본적인 과학적 과정에 접근할 수 있게 해줍니다. EUV 미러는 XUV 미러, Soft X-Ray 미러라고도 합니다. 해당 제품에는 여러 층으로 적층된 각각의 코팅층 사이의 인터페이스에서 반사 및 산란되는 EUV의 간섭이라는 물리적 원리가 적용됩니다. 해당 제품은 25.4mm 직경의 플랫/오목 미러로 제공됩니다. 원하는 중심 에너지, 대역폭 및 특정 사양을 규정한 제품이 필요한 어플리케이션의 경우 당사로 문의 바랍니다.

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