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해당 제품은 아토초 펄스를 조향, 포커싱, 쉐이핑하는 용도로 설계되었습니다. 다층 코팅은 65eV(19nm)를 중심으로 대역폭이 6eV(1.8nm)이며, S-편광의 경우 38%의 피크 반사율을 제공합니다. 해당 제품은 330 아토초의 지속 시간을 가진 EUV 펄스를 지원합니다. 또한, 고조파 생성, 자유 전자 레이저, 기타 양자 광학 어플리케이션을 기반으로 아토초 펄스를 생성하고 쉐이핑하는 것에 적합합니다.
제목 | 제품 비교하기 | 재고 번호 | 가격(부가세 별도) | 구입하기 | |
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25.4mm Dia., 19nm (65eV), 5° EUV/XUV Attosecond Multilayer Flat Mirror | #16-765 | KRW 3,197,300 견적 요청 |
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25.4mm Dia. x 250mm EFL, 19nm (65eV), 5° EUV/XUV Attosecond Multilayer Concave Mirror | #16-766 | KRW 3,197,300 견적 요청 |
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25.4mm Dia. x 500mm EFL, 19nm (65eV), 5° EUV/XUV Attosecond Multilayer Concave Mirror | #16-767 | KRW 3,197,300 견적 요청 |
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원자 정밀 이온 빔을 증착하면 원자적으로 매끄러운 코팅 층이 형성됩니다. 해당 제품은 더 많은 어플리케이션에서 높은 효율로 파장과 스펙트럼 위상을 정밀하게 제어할 수 있습니다. 아토초 과학은 극초단 레이저의 한계를 뛰어넘고, 전자의 운동과 같은 가장 근본적인 과학적 과정에 접근할 수 있게 해줍니다. EUV 미러는 XUV 미러, Soft X-Ray 미러라고도 합니다. 해당 제품에는 여러 층으로 적층된 각각의 코팅층 사이의 인터페이스에서 반사 및 산란되는 EUV의 간섭이라는 물리적 원리가 적용됩니다. 해당 제품은 25.4mm 직경의 플랫/오목 미러로 제공됩니다. 원하는 중심 에너지, 대역폭 및 특정 사양을 규정한 제품이 필요한 어플리케이션의 경우 당사로 문의 바랍니다.
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