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UV Hot Mirrors

UV Hot Mirrors

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0° 입사각에 맞춰 설계된 이 UV Hot Mirrors의 multi-layer dielectric coating은 infrared radiation을 반사시켜 축열을 제한하면서도 UV 및 VIS는 통과시킵니다. fused silica substrate의 높은 투과율은 projection 및 illumination 시스템, 그리고 UV excitation wavelength의 투과와 온도에 민감한 샘플에 해로운 radiation의 차단이 필요한 fluorescence 용도에 아주 적합합니다.

공통 스펙

Thickness (mm):
3.00
Thickness Tolerance (mm):
±0.2
Clear Aperture (%):
90
Angle of Incidence (°):
0
Coating:
Hot Mirror, 0°
Substrate:
Fused Silica (Corning 7980)
Surface Quality:
80-50
Coating Specification:
Ravg >70% @ 800 - 1050nm
Tavg >80% @ 245 - 460nm
Wavelength Range (nm):
245 - 1050
Surface Flatness (P-V):
3 - 5λ
Coating Type:
Dielectric

제품정보

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0 25.00 - 3.00
0 - 25.0 x 25.0 3.00
0 50.00 - 3.00
0 - 50.0 x 50.0 3.00
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제품설명

Hot mirrors는 열이 많이 발생해 민감한 부품들이 빨리 손상될 수 있는 많은 프로젝션 및 조명 시스템에 매우 중요합니다. Hot mirrors는 열 생성의 주요 원인인 NIR은 반사시키면서 VIS는 투과시키도록 특수 코팅이 되어 있습니다. Hot mirror를 사용함으로써 전체 시스템 성능에 끼치는 영향이 최소화되도록 heat level이 제한됩니다.

제품자료

 
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